颗粒物与金属离子双控,助力您的产品通过半导体晶圆厂严格稽核
您的半导体螺丝、阀门接头、腔体法兰、陶瓷件等精密零部件,是否正面临以下问题?
表面颗粒物(≥0.1μm)检测超标,被晶圆厂退货;
金属离子溶出(Fe/Cu/Zn/Na/K)无法满足客户越来越严的管控指标;
自建清洗线投入大、周期长,且水质不稳定、维护成本高;
缺少百级以上洁净环境,清洗后二次污染无法避免。
重庆国志水处理环保设备有限公司——专注半导体级精密清洗服务,用设备制造商的底层技术,保障清洗水质的**纯净。
我们的核心硬件能力(H3):
1. 自建18.2MΩ·cm超纯水制水系统
产水电阻率稳定维持在18.2MΩ·cm(25℃),TOC<5ppb;
在线颗粒计数器实时监控,≥0.1μm颗粒数<1个/mL;
系统全自动运行,水质数据可追溯、可导出,支持客户现场稽核。
2. 百级无尘清洗车间(ISO Class 5)
3. 兆声波清洗机组(Megasonic Cleaning)
兆声波频率精准匹配亚微米颗粒去除需求,对精密螺纹、盲孔、沟槽结构无损高效清洗;
配合专用清洗剂与超纯水终漂洗工艺,实现颗粒与金属离子的双重脱除;
适用于不锈钢、钛合金、铝合金、陶瓷、石英等多种材质。
4. 全流程质量管控
为什么选择重庆国志?(H3)
适用清洗对象(H3):
服务流程(H3):
需求沟通:客户提供零部件图纸、材质、洁净度要求及批次量;
工艺打样:免费提供样品清洗测试,出具清洗前后检测对比数据;
方案确认:确定清洗工艺路线、包装方式及交付周期;
批量作业:按约定批次排产,每批次附随货检测报告;
质量追溯:所有清洗记录、水质记录存档≥3年,随时备查。
客户证言(H3):
“我们之前外协清洗的M6不锈钢螺丝,客户反馈颗粒物超标。国志团队用兆声波+超纯水方案重新清洗后,颗粒数从平均12个/mL降至0.3个/mL,顺利通过了某头部晶圆厂的年度稽核。关键是,他们能提供完整的清洗数据链,这在同业中很少见。”——某半导体装备供应商 质量总监
联系我们(H2):
重庆国志水处理环保设备有限公司
